![]() |
| ![]() |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
│копировально-расточных станков со всей │ │доступной компенсацией меньше (лучше) 4 │ │мкм вдоль любой линейной оси (общий │ │выбор позиции); │ │ │ 2.2.1.3. │Шлифовальные станки, имеющие любую из │846011000; │следующих характеристик: │846019000; │а) точность позиционирования со всей │846021; │доступной компенсацией меньше (лучше) │846029; │4 мкм вдоль любой линейной оси (общий │846420800; │выбор позиции); и │846593000 │три или более оси, которые могут быть │ │одновременно скоординированы для │ │контурного управления; или │ │б) пять или более осей, которые могут │ │быть одновременно скоординированы для │ │контурного управления │ │ Примечание. По пункту 2.2.1.3 не │ │контролируются следующие шлифовальные │ │станки: │ │а) цилиндрические внешние, внутренние и │ │внешне-внутренние шлифовальные станки,│ │обладающие всеми следующими │ │характеристиками: │ │1) ограниченные цилиндрическим │ │шлифованием; и │ │2) с максимально возможной длиной или │ │диаметром изделия 150 мм; │ │б) станки, специально спроектированные │ │для шлифования по шаблону и имеющие │ │любую из следующих характеристик: │ │1) C-ось применяется для поддержания │ │шлифовального круга в нормальном │ │положении по отношению к рабочей │ │поверхности; или │ │2) A-ось определяет конфигурацию │ │цилиндрического кулачка; │ │в) заточные и отрезные станки, │ │поставляемые как комплектные системы с │ │программным обеспечением, специально │ │спроектированные для производства │ │резцов или фрез; │ │г) станки для обработки коленчатых │ │валов или кулачковых осей; │ │д) плоскошлифовальные станки; │ │ │ 2.2.1.4. │Станки для электроискровой обработки │845630 │(СЭО) без подачи проволоки, имеющие две │ │или более оси вращения, которые могут │ │быть одновременно скоординированы для │ │контурного управления; │ │ │ 2.2.1.5. │Станки для обработки металлов, керамики │842430900; │или композиционных материалов: │845610000; │а) посредством: │845699900 │1) водяных или других жидких струй, │ │включая струи с абразивными присадками; │ │2) электронного луча; или │ │3) лазерного луча; и │ │б) имеющие две или более оси вращения, │ │которые: │ │1) могут быть одновременно │ │скоординированы для управления по │ │контуру; и │ │2) имеют точность позиционирования │ │меньше (лучше) 0,003 град.; │ │ │ 2.2.1.6. │Станки для сверления глубоких отверстий │8458; │или токарные станки, модифицированные │845921000; │для сверления глубоких отверстий, │845929000 │обеспечивающие максимальную глубину │ │сверления отверстий 5000 мм или более, │ │и специально разработанные для них │ │компоненты │ │ │ 2.2.2. │Станки без числового программного │ │управления для получения оптически │ │качественных поверхностей и специально │ │разработанные для них компоненты, такие │ │как: │ │ │ 2.2.2.1. │Токарные станки, использующие одну │8458 │точку фрезерования и обладающие всеми │ │следующими характеристиками: │ │а) точность положения суппорта меньше │ │(лучше) 0,0005 мм на 300 мм │ │перемещения; │ │б) повторяемость двунаправленного │ │положения суппорта относительно оси │ │меньше (лучше) 0,00025 мм на 300 мм │ │перемещения; │ │в) биение и эксцентриситет шпинделя │ │меньше (лучше) 0,0004 мм полного │ │показания индикатора (ППИ); │ │г) угловая девиация движения суппорта │ │(рыскание, тангаж и вращение вокруг │ │продольной оси) меньше (лучше) двух │ │дуговых секунд ППИ на полном │ │перемещении; и │ │д) перпендикулярность суппорта меньше │ │(лучше) 0,001 мм на 300 мм перемещения │ │ Техническое примечание. │ │Повторяемость двунаправленного │ │положения суппорта (R) относительно │ │оси - это максимальная величина │ │повторяемости расположения в любой │ │позиции вдоль или вокруг оси, │ │определяемая с использованием процедуры │ │и при условиях, перечисленных в части │ │2.11 международного стандарта ИСО │ │230/2: 1988. │ │ │ 2.2.2.2. │Станки с летучей фрезой, обладающие │845969 │двумя следующими характеристиками: │ │а) биение и эксцентриситет меньше │ │(лучше) 0,0004 мм ППИ; и │ │б) угловая девиация движения суппорта │ │(рыскание, тангаж и вращение вокруг │ │продольной оси) меньше (лучше) двух │ │дуговых секунд ППИ на полном │ │перемещении │ │ │ 2.2.3. │Станки с числовым программным │846140710; │управлением или станки с ручным │846140790 │управлением и специально разработанные │ │для них компоненты, оборудование для │ │контроля и приспособления, специально │ │разработанные для шевингования, │ │финишной обработки, шлифования или │ │хонингования закаленных (Rc = 40 или │ │более) прямозубых цилиндрических, │ │одно- или двухзаходных винтовых │ │шестерен с модулем более 1250 мм и с │ │лицевой шириной, равной 15% от модуля │ │или более, с качеством после финишной │ │обработки в соответствии с │ │международным стандартом ИСО 1328 по │ │классу 3 │ │ │ 2.2.4. │Горячие изостатические прессы, имеющие │846299 │все следующие составляющие, и │ │специально разработанные для них │ │штампы, матрицы, компоненты, │ │приспособления и элементы управления: │ │а) камеры с контролируемыми тепловыми │ │условиями внутри закрытой полости и │ │внутренним диаметром полости 406 мм и │ │более; и │ │б) любую из следующих характеристик: │ │1) максимальное рабочее давление более │ │207 МПа; │ │2) контролируемые температурные │ │условия, превышающие 1773 K (1500 град. │ │C); или │ │3) оборудование для насыщения │ │углеводородом и удаления газообразных │ │продуктов разложения │ │ Техническое примечание. Внутренний │ │размер камеры относится к камере, в │ │которой достигаются рабочие давление и │ │температура; в размер камеры не │ │включается размер зажимных │ │приспособлений. Указанный выше размер │ │будет минимальным из двух размеров - │ │внутреннего диаметра камеры высокого │ │давления или внутреннего диаметра │ │изолированной высокотемпературной │ │камеры - в зависимости от того, какая │ │из двух камер находится в другой. │ │ │ 2.2.5. │Оборудование, специально │ │спроектированное для оснащения, │ │реализации процесса и управления │ │процессом нанесения неорганического │ │покрытия, защитных слоев и │ │поверхностных модификаций, например │ │нижних слоев неэлектронными методами, │ │или процессами, представленными в │ │таблице и отмеченными в примечаниях │ │после пункта 2.5.3.4, а также │ │специально спроектированные средства │ │автоматизированного регулирования, │ │установки, манипуляции и компоненты │ │управления, включая: │ │ │ 2.2.5.1. │Управляемое встроенной программой │841989950 │производственное оборудование для │ │химического осаждения паров (CVD) со │ Перейти на стр.1Перейти на стр.2Перейти на стр.3Перейти на стр.4Перейти на стр.5Перейти на стр.6Перейти на стр.7Перейти на стр.8Перейти на стр.9Перейти на стр.10Перейти на стр.11стр.12Перейти на стр.13Перейти на стр.14Перейти на стр.15Перейти на стр.16Перейти на стр.17Перейти на стр.18Перейти на стр.19Перейти на стр.20Перейти на стр.21Перейти на стр.22Перейти на стр.23Перейти на стр.24Перейти на стр.25Перейти на стр.26Перейти на стр.27Перейти на стр.28Перейти на стр.29Перейти на стр.30Перейти на стр.31Перейти на стр.32Перейти на стр.33Перейти на стр.34Перейти на стр.35Перейти на стр.36Перейти на стр.37Перейти на стр.38Перейти на стр.39Перейти на стр.40Перейти на стр.41Перейти на стр.42Перейти на стр.43Перейти на стр.44Перейти на стр.45Перейти на стр.46Перейти на стр.47Перейти на стр.48Перейти на стр.49Перейти на стр.50Перейти на стр.51Перейти на стр.52Перейти на стр.53Перейти на стр.54Перейти на стр.55Перейти на стр.56Перейти на стр.57Перейти на стр.58Перейти на стр.59Перейти на стр.60Перейти на стр.61Перейти на стр.62Перейти на стр.63Перейти на стр.64Перейти на стр.65Перейти на стр.66Перейти на стр.67Перейти на стр.68Перейти на стр.69Перейти на стр.70Перейти на стр.71Перейти на стр.72Перейти на стр.73Перейти на стр.74Перейти на стр.75Перейти на стр.76Перейти на стр.77Перейти на стр.78Перейти на стр.79Перейти на стр.80Перейти на стр.81Перейти на стр.82Перейти на стр.83Перейти на стр.84Перейти на стр.85Перейти на стр.86Перейти на стр.87Перейти на стр.88Перейти на стр.89Перейти на стр.90Перейти на стр.91Перейти на стр.92Перейти на стр.93Перейти на стр.94Перейти на стр.95Перейти на стр.96Перейти на стр.97Перейти на стр.98Перейти на стр.99Перейти на стр.100Перейти на стр.101Перейти на стр.102Перейти на стр.103Перейти на стр.104Перейти на стр.105Перейти на стр.106Перейти на стр.107Перейти на стр.108Перейти на стр.109Перейти на стр.110Перейти на стр.111Перейти на стр.112 |